1. a-Si (silicium amorphe) : l'a-Si est le matériau semi-conducteur le plus ancien utilisé dans les couches de canaux TFT. Le processus de fabrication des fonds de panier TFT a-Si est relativement simple, offrant des taux de rendement élevés et de faibles coûts, des qualités qui lui confèrent un avantage naturel dans la production de panneaux TFT-LCD sur des lignes de génération supérieure. Actuellement, la grande majorité des lignes de production G8.5 et des générations supérieures utilisent des fonds de panier TFT a-Si. Cependant, en raison de la mobilité électronique du a-Si de seulement 0,9 à 1 cm²/V·s, il n'est pas bien adapté à la création d'écrans avec une luminosité élevée, une haute résolution, un PPI élevé ou des taux de rafraîchissement rapides. En conséquence, l’a-Si est principalement utilisé dans les panneaux d’affichage d’entrée de gamme.
2. IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide) : par rapport aux matériaux semi-conducteurs a-Si, la technologie de fond de panier IGZO TFT offre une mobilité électronique nettement plus élevée. Avec une mobilité électronique de 10 à 25 cm²/V·s, IGZO permet des taux de charge-décharge plus rapides pour les électrodes de pixels TFT, permettant d'obtenir une luminosité élevée, une haute résolution, un PPI élevé et des taux de rafraîchissement améliorés dans les panneaux d'affichage de grande taille.
3. LTPS (Low-Temperature Poly-Silicon) : LTPS est une technologie qui transforme un film mince de silicium amorphe (a-Si) déposé sur du verre en silicium polycristallin (p-Si, Poly-Silicon) grâce à un processus de cristallisation mené à des températures inférieures à 600 °C. Enfin, des procédés en couches minces sont utilisés pour fabriquer des dispositifs TFT avec du p-Si servant de couche active. Parmi l'a-Si et l'IGZO, le matériau semi-conducteur LTPS possède la mobilité électronique la plus élevée, atteignant plus de 100 cm²/V·s. Cela le rend idéal pour produire des panneaux d’affichage avec une luminosité plus élevée, une plus grande résolution, un PPI plus élevé et des taux de rafraîchissement plus rapides. Cependant, en raison de son processus de fabrication complexe et de ses coûts plus élevés, le LTPS est mieux adapté aux fonds de panier TFT des lignes de production G6.0 ou de génération plus petite.
4. LTPO (oxyde polycristallin à basse température) : le LTPO est un matériau créé en combinant deux technologies de semi-conducteurs : LTPS et IGZO. Il hérite de la grande mobilité électronique du LTPS tout en bénéficiant du courant de fuite exceptionnellement faible d'IGZO. La mobilité électronique supérieure permet aux panneaux d’affichage d’obtenir des fonctionnalités telles qu’une luminosité élevée, des résolutions plus nettes, un PPI plus élevé et des taux de rafraîchissement plus rapides. Parallèlement, le courant de fuite réduit permet aux panneaux de fonctionner à des taux de rafraîchissement inférieurs, réduisant ainsi considérablement la consommation d'énergie. Actuellement, la technologie de fond de panier LTPO TFT est utilisée dans les produits AMOLED haut de gamme.
5. RVB CR (RGB Color Resist) : le matériau de base du substrat de filtre de couleur CF résistant aux couleurs RVB, généralement composé de couleurs primaires rouge, vert et bleu. Il fournit la chromaticité et la transmission pour les panneaux d'affichage à cristaux liquides TFT LCD.
6. BM (Black Matrix) : d'une part, le Black Matrix BM sert à bloquer la lumière, empêchant ainsi le mélange de couleurs entre les sous-pixels rouges, verts et bleus adjacents. Il arrête efficacement les fuites de lumière entre les sous-pixels, améliorant ainsi le rapport de contraste du panneau d'affichage. 7.0c (Over Coater) : protège les couches de blocage de couleur rouge, verte et bleue tout en aplatissant simultanément la surface du film CF. The OC layer is made from acrylic resin and comes in two types: thermosetting and UV-curable. Pour les produits dotés des modes d'affichage VA et TN, étant donné que les couches de blocage de couleur rouge, verte et bleue sont recouvertes par une électrode ITO pour la protection, les variations d'épaisseur des cellules causées par les irrégularités de ces couches et de la matrice noire (BM) ont un impact minimal sur les performances d'affichage. Par conséquent, la couche OC peut être omise. Cependant, les produits en mode d'affichage IPS ne disposent pas de cette couche d'électrode protectrice en ITO, ce qui rend essentiel un contrôle précis de l'épaisseur des cellules ; par conséquent, la couche OC est essentielle pour ces applications.
7. P/Polyimide : le film d'alignement est appliqué sur les deux surfaces intérieures du substrat de la matrice TFT et sur le substrat du filtre couleur (CF). Après durcissement, le film d'alignement exerce un effet « d'ancrage » sur les molécules de cristaux liquides, garantissant qu'elles s'alignent selon un angle de pré-inclinaison spécifique.
8. PS (Photo Spacer) : les espaceurs en colonnes sont formés par photolithographie et sont communément appelés Photo Spacers. Ces espaceurs servent à soutenir les substrats en verre TFT et CF, garantissant une épaisseur d'espacement cellulaire uniforme. De plus, ils améliorent la résistance à la compression de l'écran LCD TFT tout en conservant des rapports de transmission et de contraste optimaux.
9. MPS (Main-PS) : Main-PS est un matériau en résine élastique dont la fonction principale est de soutenir les substrats en verre TFT et CF du panneau LCD, garantissant une épaisseur stable et uniforme de la cellule à cristaux liquides.
10.SPS (Sub-PS) : Travaillant en tandem avec le Main-PS, le Sub-ps fournit un support supplémentaire au panneau à cristaux liquides. Cela contribue à améliorer la résistance du panneau aux forces d'écrasement : lorsqu'une pression externe est appliquée, le Sub-PS et le Main-PS travaillent ensemble pour empêcher la déformation.
11.BS (Ball Spacer) : L'objectif principal de la dispersion des espaceurs sphériques dans la cellule est de soutenir les substrats en verre TFT et CF tout en conservant l'épaisseur de la cellule. Cependant, le processus de dispersion entraîne souvent une répartition inégale de ces espaceurs sphériques, entraînant des problèmes tels qu'une transmission réduite et des rapports de contraste plus faibles. En conséquence, cette technologie a été largement abandonnée aujourd’hui.
12. Entretoise GF (entretoise en fibre de verre) : les entretoises en fibre de verre sont généralement mélangées à l'adhésif d'étanchéité pour maintenir une épaisseur constante de la boîte de cellules sur toute la zone de la cellule, garantissant une dispersion uniforme des molécules de cristaux liquides dans la cellule et empêchant les défauts d'affichage autour du périmètre de la cellule.
13.LC (Liquid Crystal) : Les cristaux liquides sont un état intermédiaire de la matière qui se situe entre les liquides et les solides, présentant des propriétés telles que la fluidité d'un liquide combinée à l'anisotropie d'un cristal. À basse température, autour de -50°C, les cristaux liquides apparaissent généralement sous la forme de cristaux blancs ressemblant à du plastique. À mesure que la température augmente, les cristaux liquides se ramollissent progressivement, se transformant en un fluide transparent, huileux et visqueux. Si la température continue d'augmenter, atteignant généralement environ 100 °C (bien que le point de clarification varie en fonction du type spécifique de cristal liquide), le matériau devient un liquide clair et fluide. La température à laquelle se produit cette transition vers la transparence est connue sous le nom de point de clarification des cristaux liquides.
14.N+ a-Si (n+ Silicium Amorphe) : N+ a-Si est couramment utilisé dans les couches de contact ohmiques, généralement positionnées entre les électrodes source et drain et la couche semi-conductrice. La fonction principale du n+ a-Si est de réduire la résistance de contact, permettant aux électrodes source et drain d'extraire ou d'injecter plus efficacement les porteurs de charge de la couche semi-conductrice.
15.ITO (Indium Tin Oxide) : L'ITO est un oxyde conducteur transparent, qui constitue l'une des couches minces critiques des TFT-LCD. Dans les TFT-LCD, il est couramment utilisé comme électrode de pixel (Pixel ITO), électrode commune (COM ITO) et plage de connexion (PAD).
16.ATO (Antimony-Doped Tin Oxide) : Les films ATO à haute résistance sont couramment utilisés dans les projets Incell. L'ATO est déposé sur la surface supérieure du verre CF pour résoudre des problèmes tels que les interférences avec les signaux tactiles et pour améliorer la conductivité électrostatique.
17. Scellant : dans les TFT-LCD, l'adhésif de bordure sert principalement à sceller la cellule à cristaux liquides, empêchant les fuites de cristaux liquides et la pénétration d'humidité, maintenant des dimensions d'espacement cellulaire constantes autour du périmètre et reliant le substrat de la matrice au substrat du filtre couleur CF.
18. Scellant principal : En règle générale, un seul cordon d'adhésif de bordure est appliqué autour du périmètre d'un panneau d'affichage LCD : c'est ce qu'on appelle l'adhésif de bordure principal.
19.Mastic factice : autour du périmètre des grands panneaux de verre, un adhésif de bordure redondant supplémentaire est appliqué, ce qui aide à maintenir l'équilibre mécanique pendant le processus de découpe du substrat de verre. Cela garantit des forces équilibrées sur les lames de coupe supérieure et inférieure, tout en réduisant également la contrainte de coupe subie par l'adhésif de bordure primaire.
20.SiNx : Le nitrure de silicium joue une grande variété de rôles dans les écrans TFT-LCD, servant de couche barrière, de couche protectrice, de couche isolante, etc. Le film SiNx présente une structure dense qui empêche efficacement la diffusion des ions d'impuretés. De plus, les films SiNx sont couramment utilisés comme revêtements protecteurs, protégeant les couches de câblage critiques. Le SiNx est également fréquemment utilisé comme isolant électrique, aidant à prévenir les courts-circuits de courant en isolant différentes couches de film.
21.G-SiNx : Un film de nitrure de silicium déposé sur l'électrode de grille, communément appelé G-SiNx ou, alternativement, couche GI, sert principalement de matériau isolant.
22.Le film de nitrure de silicium PA-SiNx, déposé sur les électrodes de source et de drain, est communément appelé PA-SiNx et sert principalement de couche isolante et protectrice.
23.MO/AL/MO : Un schéma de combinaison pour les matériaux d'électrode des électrodes source, drain et grille, matériaux métalliques composites couramment utilisés dans la technologie des procédés AL.
24.MoTi/Cu : une combinaison de matériaux d'électrode pour les électrodes source, drain et grille, matériaux métalliques composites couramment utilisés dans la technologie de processus CU.
25.SD (Source/Drain) : L'électrode source est l'électrode d'entrée du TFT, servant généralement de terminal d'entrée de données, et elle fournit du courant à l'électrode de drain. L'électrode Drain, quant à elle, agit comme une borne de sortie de courant, recevant le courant qui traverse le canal depuis l'électrode source, puis le transmettant à l'électrode pixel.
26.Gate : L’électrode de grille est l’électrode de commande du TFT. En lui appliquant une tension, la conductivité du canal peut être modifiée. La tension de grille est utilisée pour allumer et éteindre le transistor, contrôlant ainsi si le pixel est allumé ou sombre.
27.PR (Photoresist) : Le photoresist est un matériau sensible à la lumière utilisé dans le processus de photolithographie. Dans ce processus, la résine photosensible est appliquée sur la surface de la couche de film sur le substrat Array ou le substrat de filtre coloré CF. Après exposition aux UV, ses propriétés chimiques changent, permettant aux zones exposées d'être éliminées par la solution révélatrice, tandis que les zones non exposées restent intactes.
28.CLC (Condensateur à cristaux liquides) : L'élément de transition qui convertit l'entrée électrique en sortie optique est le condensateur de charge de pixel, qui se compose principalement de la capacité des cristaux liquides et du condensateur de stockage. Sa fonction principale est d'assurer la stabilité de la tension des pixels. La capacité des cristaux liquides est un composant essentiel des écrans LCD TFT, mesurant généralement environ 0,1 pF. En raison de sa valeur de capacité relativement faible, il ne peut pas maintenir la tension chargée pendant une période prolongée, uniquement jusqu'à la prochaine mise à jour des données de trame. Par exemple, à une fréquence de rafraîchissement standard de 60 Hz, chaque image doit conserver son état pendant environ 16 ms. Cependant, pendant cet intervalle, la capacité des cristaux liquides peut ne pas maintenir la tension stable, ce qui entraîne une représentation incorrecte des niveaux de gris et, finalement, une dégradation de la qualité de l'image.
29.Cst (Capacitor Storage) : Le condensateur de stockage a été introduit pour résoudre les problèmes mentionnés précédemment. Pour compenser les limites du condensateur à cristaux liquides, un condensateur de stockage est généralement intégré aux conceptions TFT LCD. Ce condensateur de stockage a généralement une capacité nettement supérieure à celle du condensateur à cristaux liquides (environ 0,5 pF), ce qui lui permet de maintenir efficacement la charge stockée dans le condensateur à cristaux liquides. Le condensateur de stockage est généralement formé entre l'électrode de pixel et les traces d'électrode communes, et sa fonction principale est de garantir que la tension chargée reste stable jusqu'à la prochaine mise à jour de l'écran.